Ledia 8

直接成像系统 Ledia 6

搭载大功率光源的“Ledia 6H”

Ledia的光源单元最优化，从而实现了大功率，这就是“Ledia 6H”。 相比目前的常规功率光源，生产率最多可提高25%。 ※因使用的感光材料特性、工艺条件而异。

UV-LED多波长曝光

将节能、使用寿命长且具有优异耐环境性的LED作为直接成像系统的光源装置，通过高效合成多个波长的自主技术。实现高能量且波段范围广的曝光光源，使曝光能量均匀地从上到下穿透阻焊膜。不仅是高灵敏度阻焊膜，传统的接触曝光装置、投影曝光装置上使用的一般干膜、阻焊膜等各种类型的阻焊膜都能得到良好的曝光结果。

不挑选阻焊膜的种类，实现高品质的曝光

通成光波长，自如地控制3种波长的光源，可以利用最佳的输出率对各种阻焊膜进行曝光处理。